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　　PECVD等離子體增強化學氣相沉積是將低壓氣體放電形成的等離子體應用于化學氣相沉積的一項新技術。在PECVD裝置中，將基片置于低壓輝光放電的陰極上，通入適當氣體，在一定溫度下，利用化學反應和離子轟擊相結合的過程，在基片表面沉積成膜。所以，PECVD不但包括化學氣相沉積，同時又有等離子體放電的強化過程。
在眾多的等離子產(chǎn)生辦法中，駿鷹PECVD反應系統(tǒng)使用了高密度的等離子源，如高頻（RF-PECVD）、微波（MW-PECVD）和電子回旋共振（ECR-PECVD）。其濃密的等離子適用于薄膜太陽能電池、表面改性、光和工業(yè)鍍覆、氮化硅鈍化、金剛石薄膜和其他。提供的PECVD系統(tǒng)可為客戶個體制造和研發(fā)需求量身定制。
MW-PECVD
駿鷹微波PECVD系統(tǒng)主要用于沉積金剛石薄膜。提供生產(chǎn)多種形態(tài)的薄膜、如類金剛石碳(DLC)和單晶金剛石、納米晶體金剛石、超納米晶體金剛石以及單晶金剛石的加工方法。光學性能可以從烏黑到所有的光學級別。金剛石薄膜在光學級金剛石上可以達到1.2mm的厚度，而在黑金剛石上為2mm。我們的915 MHz MW-PECVD系統(tǒng)可鍍覆直徑高達4“/ 100毫米的基片。對于直徑2"/50 mm或更小的金剛石，使用2.45 GHz MW-PECVD系統(tǒng)更為經(jīng)濟。
真空室：內腔尺寸   φ500mm（直徑）×350mm（高）.
φ500mm×550mm
φ600 mm×500 mm             
φ700mm×500mm